案例介绍
光刻领域
OPC英文全称为Optical Proximity Correction,指的是光学邻近矫正,同时也是一种光刻增强技术,修正图形产生的畸变。
用于芯片制造的仿真软件，给芯片代工厂提供的EDA工具软件。
分为model和geometry两大部分。
两年半，作为项目经理负责了geometry（二维图形）部分的sraf、bias、retarget模块下特性的需求分析、软件设计实现、开发管理、测试验证工作。以及平台基础设施的搭建与完善。
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